二手 DNS / DAINIPPON SSW-629-B #293608924 待售

DNS/DAINIPPON SSW-629-B Wafer&Mask洗涤器是一种用于从半导体基板和光刻光学器件中去除颗粒的自动化解决方桉。这种装置专为颗粒清洁应用而设计，如低k或Cu基板，用于背面和正面溅射过程。该设备包括一个盒式装载机/卸载机、一个装有MFC控制器和机器部件的大型机以及一系列洗刷。每个洗涤刷都由一个定制的旋转主轴组成，该主轴连接到一个机动化的可编程驱动器上。洗涤过程由伺服控制的空气轴承系统操作，使刷子与旋转主轴同步移动，两个部件之间没有任何摩擦。伺服控制单元可确保晶片表面均匀的洗涤压力,并可进行精细调整以达到预期的效果。洗涤过程由微处理器控制的程序驱动，可以精确调整刷子和主轴的速度。这使操作员能够以最高的效率执行高度有针对性的洗涤过程，确保晶圆上颗粒的均匀去除。洗涤器还配备了30瓦激光，同时配备了自动对焦和功率调节功能。这样可以进行高度精确的调整,以获得最佳的清洁性能。DNS SSW-629B采用机舱式外壳设计,以最大限度地提高操作员的安全性,并减少机载污染。洗涤器内部装有一台强大的排烟机，从洗涤器外部输送新鲜空气，防止空气再循环，减少对危险颗粒的任何接触。洗涤器还包括一个可以方便地控制设备的控制单元。这包括使用操作日志对洗涤器设置进行编程、调整洗涤器的速度和方向以及随时监控洗涤器过程的能力。控制单元还具有直观的液晶显示屏,便于监控洗涤器的状态并进行任何必要的调整。DAINIPPON SSW 629B是一种先进的晶圆和掩模洗涤器,旨在降低与颗粒污染相关的风险,并最大限度地提高洗涤工艺的效率。该洗涤器结合其最先进的特点，如伺服控制的空气轴承工具和强大、可调的激光，为去除半导体基板中的颗粒和光刻光学材料提供了高效、可靠和安全的解决方桉。