二手 G&P TECHNOLOGY 412R #293823240 待售
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ID: 293823240
晶圆大小: 4"-12"
Post CMP cleaner, 4"-12"
Main unit
(2) Process chambers
PVA double-sided brush stations
Multi-line chemical dispense system
Color touchscreen interface
Status tower light
Integrated control system
Chemical modules
Multi-stage cleaning process:
Pre-clean station
First brush scrubbing stage
Second brush scrubbing stage
Megasonic cleaning stage
Spin-dry station
Internal plumbing, wiring, accessories are included.
AXUS/G&P TECHNOLOGY 412R是为半导体行业设计的尖端晶圆和掩模洗涤器。它采用了先进的技术和特点,以确保对半导体制造中使用的晶片和掩模进行高效的清洗和处理。AXUS 412R的核心是其强大的洗涤机制,这对于去除晶片和掩模中的污染物和残留物至关重要。洗涤器配有高性能的刷子和清洁垫,能够达到彻底一致的清洁效果。这些工具被设计成在细腻的晶片和蒙版上是温和的,同时仍然提供有效的擦洗动作来实现原始的表面。G&P TECHNOLOGY 412R设计用于容纳各种尺寸的晶片,从小型半导体模具到大型基板。其多用途夹紧系统确保晶片在清洗过程中的安全和精确处理。这一特性对于保持晶片的完整性和防止擦洗过程中的损坏尤为重要。412R的主要亮点之一是其高级自动化功能。洗涤器配有智能控件和可编程设置,使用户能够根据自己的具体要求定制清洁参数。这种自动化程度不仅简化了操作,而且确保了一批又一批的一致和可重现的清洗结果。除了洗涤功能外,AXUS/G&P TECHNOLOGY 412R还提供全面的过程监控功能。洗涤器配有传感器和探测器,可连续监控清洁溶液、温度和压力水平等关键参数。这种实时反馈使操作员能够快速调整,以优化清洁性能并保持运营效率。AXUS 412R的设计也考虑到了用户的便利。其用户友好的界面和直观的控件使操作员能够在极少的培训下轻松设置和操作洗涤器。洗涤器还配备了安全功能,以确保符合行业法规和标准,为操作员提供安全的工作环境。此外,G&P TECHNOLOGY 412R的构建考虑到了耐用性和可靠性.其坚固的结构和高质量的组件确保了长期的性能和最小的停机时间。这种可靠性对于半导体制造设施至关重要,在半导体制造设施中,连续运行对于满足生产计划和向客户交付高质量产品至关重要。总体而言,412R代表了半导体行业中晶圆和掩模清洁的最先进的解决方桉。AXUS/G&P TECHNOLOGY凭借其先进的洗涤技术、多用途的功能、自动化功能、过程监控和用户友好的设计,412R是寻求优化其清洁工艺并实现卓越晶圆和掩模质量的半导体制造商的宝贵资产。
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