二手 K&S 971 #9077085 待售

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K&S 971
已售出
製造商
K&S
模型
971
ID: 9077085
晶圆大小: up to 8"
Microwash station, up to 8" Handles up to 10" diagonal substrates For sawed/scribed wafers, photomask and other substrate cleaning Oscillation High pressure DI spray arm - up to 2000 psi Filtration at 0.2um Combined chamber exhaust and drain Built in safety interlocks Nitrogen dry Infrared heat lamp 115V, 50/60 Hz, 6A Missing cone.
K&S 971是为半导体制造行业设计的晶圆和掩模洗涤器。它用于在制造过程中清洁晶圆和掩模的表面,确保它们没有微观颗粒和污染物。971采用机械搅拌和流体传导材料的组合,从晶片和掩模表面去除颗粒。K&S 971利用由直流电动机提供动力的机械洗涤动作。这种电动机产生一组高达500 RPM的振荡,振幅为0.5毫米,从而对正在加工的材料表面产生很大的机械磨损。一种综合化学清洁设备增强了洗涤作用,该设备利用特定类型的流体分解并冲走晶片和面罩表面可能残留的任何微观污染物。971还具有可调压力和喷嘴控制功能,使用户能够设定精确的洗涤压力和喷嘴角度,以达到最佳清洁动作。这样可以确保擦洗功能足够强大,能够去除任何颗粒,同时不会对下面的材料造成过度磨损和损坏。K&S 971包含一个自给自足的过滤系统,能够从洗涤液中同时去除固体和气溶胶颗粒,从而确保液体保持清洁,任何颗粒在重新循环回清洁单元之前被清除。还有一台材料回收机,收集和储存在洗涤过程中从晶片和掩模中去除的任何颗粒。这种回收工具对于减少洗涤过程中产生的废物非常重要。971还具有自动洗涤室清洁资产,用户可以在完成一个过程后轻松快速地清洁洗涤室。这个模型冲走所有留在腔壁上的颗粒,确保在洗涤过程中不会留下颗粒。此外,K&S 971还具有广泛的安全特性,例如防止任何液体从设备中逸出的水密封条,并保护操作员免受洗涤过程中产生的任何危险蒸气或喷雾。总体而言,971是一种高效的洗涤器,专为半导体制造工艺而设计。它具有综合的机械和化学作用,确保晶片和掩模的表面在洗涤过程中保持清洁,不受污染物的污染。此外,它的可调压力和喷嘴控制特性、自给自足的过滤系统、材料回收单元和自动洗室机都协同工作,使洗涤性能最大化,同时也保证了操作员的安全。
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