二手 K&S 973 #9086027 待售

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K&S 973
已售出
製造商
K&S
模型
973
ID: 9086027
High pressure microwash substrate cleaning systems, up to 8" Oscillating high pressure deionized water jet spray of up to 2000 psi with 0.2 micron filtration Touch screen operation CO2 reionizer for elimination of static charge Nitrogen dry Infrared heat lamp 115V, 50/60.
K&S 973是最初由K&S Technology GmbH设计的先进晶圆和掩模洗涤器。它是最强大、最可靠的洗涤器,具有先进的洗涤技术,可实现非常低的颗粒分离速率和极高的压力水平。这使得它适合在各种各样的环境中使用,包括半导体、平板显示器和光电制造,以及在医疗、汽车、国防和航空航天工业。973先进的晶片和面膜洗涤技术基于三阶段清洗工艺。其高压喷嘴系统设计为对晶圆或掩模表面施加精确的水纹。然后将水通过精密过滤器引导,清除表面可能存在的污垢、灰尘和其他颗粒。最后,粒子通过高压静电荷进一步从表面除去,以捕获和中和它们。K&S 973设计为能够使用广泛的材料和基材。它具有可调的洗涤器压力、温度和刷子设置,允许用户优化洗涤过程。它还提供了一个气动喷嘴系统,以改进水的应用控制。洗涤器能够处理直径不超过12英寸的晶片和口罩。洗涤器具有可靠且易于使用的触摸屏控制面板。这使操作员能够方便地调整洗涤压力和温度水平,以及刷子的宽度和深度。用户还可以访问有关擦洗参数和进程的详细信息。973设计紧凑,使其成为最具空间效率的洗涤器之一。它是大规模和小规模生产环境的理想解决方桉。K&S 973旨在提供出色的洗涤性能、可靠性和安全性。它被批准用于ISO Class 5清洁室环境,使得它对于广泛的应用是可靠的。其质量和性能由K&S Technology GmbH保修保证。
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