二手 LAM RESEARCH DSS 200 #9094834 待售
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ID: 9094834
晶圆大小: 5", 6" & 8"
优质的: 1998
Double-sided, post-CMP scrubber, 5", 6" & 8"
(5) Pressurized chemical distribution vessels
110V, 1 Phase, 60Hz
1998 vintage.
LAM RESEARCH DSS 200是一种晶圆和掩模洗涤设备,设计用于半导体和计量过程中制造集成电路等元件。它是一种人工工艺,采用温和的碱性清洁剂、表面活性剂和空气的组合,从晶圆和口罩中清洗和去除所有类型的细颗粒物污染物。LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200系统具有两个阶段的清洁周期,从成像评分预清洁阶段开始,从晶片和口罩表面清除持久的微粒,如多余的暴露材料。接下来是最后的手动清洗阶段,将晶片和面膜表面精心擦洗,并用精选的溶剂和清洁溶液擦拭。此过程用于清除任何在预清洁阶段后可能留下的细小颗粒、污垢、灰尘和油。然后清除干净的干燥空气,完成清洁周期,干燥晶片和口罩,准备下一个处理阶段。该设备设计用于工业环境,并与标准半导体和计量设备集成,使其易于融入现有工艺。它坚固可靠,具有NEMA 12的高安全等级,适合在危险条件下使用,包括使用可能易燃材料的区域。DSS 200设计紧凑,易于操作,并且需要最少的操作员培训。它配备了提高流程效率和准确性的几个功能,如QuickClear软件,允许在批次之间快速切换和重置机器,以及Masked Area Monitor,用于自动检测蒙版上未暴露的区域,提高准确性,减少与手动洗涤相关的错误。该工具还具有一系列易于使用的安全功能,包括一个安全门互锁资产,以防止清洁周期中的意外操作,以及一个烟罩,以容纳过程中使用的任何危险材料。最后,ONTRAK DSS 200模型是一种可靠、坚固、高效的晶圆和掩模洗涤设备,设计用于工业环境。它非常适合去除晶片和掩模中的细颗粒污染物,并具有一系列的生产力和安全特性,使其易于使用和操作。
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