二手 LAM RESEARCH / ONTRAK Series II #9412623 待售

LAM RESEARCH/ONTRAK Series II Wafer and Mask Scrubber是一个先进的自动化系统，旨在清洁和消除大规模的光刻面膜和晶片。该洗涤器利用最先进的机器人技术和先进的图像识别技术来分析和处理不同的掩模和晶片特性，包括：表面地形、图样特征和结构特征。该过程从洗涤器扫描晶圆或掩模顶部的特殊光学元件开始，以检测缺陷。一旦检测到,设备就会使用自动"刷牙"工艺,将高压清洗液流施加到晶圆或掩模表面。然后，洗涤器利用其图像识别技术检测任何残留污染物，并重复清洗过程，直到达到无污染的结果。ONTRAK系列II晶圆和蒙版洗涤器由于其先进的机器人和图像识别技术而提供了优于其他专业级洗涤器的性能。洗涤器还为专业人士提供了便利，因为它设计的外形小巧，便于在不同地点运输和使用。洗涤器配有直观的图形用户界面，使操作易于理解和设置。此外，洗涤器能够为不同的光刻工艺存储多达8种用户可编程的清洁方法，使用户能够无缝地在不同配方之间切换。设备的高级联网功能还允许用户监视多个位置的操作。LAM RESEARCH Series II Wafer and Mask Scrubber是专业石版画家和半导体制造商必备的工具。其强大的成像识别功能和自动化的清洁过程使洗涤器能够以最少的精力和时间有效地清洁和消除口罩和晶片的污染。此外,设备外形小巧且易于使用的界面使操作快速高效,而其网络功能和存储的清理程序允许用户远程访问和管理操作。如果你正在寻找一个先进的和有效的洗涤器大规模光刻工艺，系列II晶圆和蒙版洗涤器是完美的选择。