二手 LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293606441 待售

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy是晶圆和掩模洗涤器，一种用于处理精细半导体晶圆的设备。它是专门为清洁晶片和掩模表面而开发和设计的，用于半导体制造设备，如光刻系统。洗涤器的设计目的是去除晶片和掩模的表面污染，去除当用作光刻过程的一部分时可能造成缺陷和产生损失的颗粒。洗涤器由洗涤器和洗涤器室两个主要部件组成。洗涤器是一种无损装置，而洗涤器室有一个清洁室和一个氯化室。洗涤器由两个反向旋转的磨砂盘、一组振动阻尼器和正在处理的用于干燥晶片和掩模的排气扇组成。磨砂盘的设计目的是去除晶片表面的颗粒，而减振器则减少擦洗过程中敏感材料碎裂或开裂的风险。洗涤器室由主加工室、冲洗室和面罩清洗室组成。主工艺室设计用于清洁和抛光晶片表面，并配有排气系统，从洗涤过程中排出废水。冲洗室设计用于晶片的最终清洗和冲洗，从而实现可靠和一致的清洁性能。最后，口罩清洗室用于清洁口罩，采用无压工艺，提供更好的清洁效果，减少口罩损坏的风险。此外，洗涤器还具有便于收集和回收洗涤过程中产生的废水的特点。它还配备了先进的真空系统，使用动力头过滤器在干燥前从晶圆表面去除颗粒。此外,洗涤器的设计使得它能够在不需要更换刀具、提高吞吐量和减少停机时间的情况下运行。洗涤器可支持各种晶圆尺寸,并利用经过验证的洗涤器圆盘设计,从晶圆表面进行最佳的污染清除。总体而言,ONTRAK Synergy晶片和掩模洗涤器为半导体加工应用提供了可靠、经济高效的解决方桉。其先进的设计和功能为晶片和口罩提供了更好的清洁性能，也为用户提供了更好的安全性。此外，其易于收集和回收废水的能力及其高效的过滤系统提供了可靠的保护，免受亚修复污染和屈服损失，使其成为半导体织物的有效解决方桉。