二手 NEW TECH WAVE 3600 HC #9409605 待售

NEW TECH WAVE 3600 HC是NEW TECH WAVE Inc.它是为彻底和一致的清洁抗蚀剂，蚀刻，离子映射光刻剂和蒙版擦洗应用而设计的。3600 HC设计用于去除可能影响半导体产品性能的表面污染物和残留物。该系统利用化学、机械和超声波能量，确保在一个通道内进行深度清洗过程，洗涤操作次数可根据应用类型进行编程和调整。洗涤器的特点是一个双罐单元，带有一个耐化学的不锈钢罐，其中包含一个特殊的洗涤液。该解决方桉旨在去除晶片和掩模表面存在的化学物质和颗粒。为了提供最大的效率，洗涤解决方桉可以用简单的解决方桉级控制机器进行调节。该工具还包括一个自动跟踪资产，用于监测晶圆或掩模表面上污染物的增长。这使得洗涤器能够随着表面污染水平的变化而优化其清洁周期。NEW TECH WAVE 3600 HC包括一个自清洁搅拌器，以消散化学残留物，确保化学物质更好地溶解，以便完全清洗。洗涤速度是可调的，允许完全控制洗涤时间和压力，避免任何可能损坏晶片或蒙版。3600 HC包括内置触摸面板和直观GUI。这使用户可以轻松设置和编程洗涤周期的参数,包括要清洗的材料的类型、清洁压力、溶液温度、洗涤频率和周期持续时间。触摸面板还提供了详细的清洁结果,可用于实时监控清洁周期。综上所述，NEW TECH WAVE 3600 HC是一种可靠高效的洗涤器模型。它具有自动跟踪设备和自动清洁功能,是深层清洁应用的理想选择。此外，触摸面板允许简单的编程和监控，使系统成为一个有效的和用户友好的解决方桉晶圆和蒙版擦洗。