二手 NIKON NRW-504 #9137286 待售

NIKON NRW-504 Wafer&Mask洗涤器设计用于在加工前后清洗晶片和Mask。这台机器的设计采用了气体和物理洗涤作用的组合，以去除晶片和掩模中的颗粒和污染物。气体洗涤动作使用一种控制设备，该设备被封闭在不锈钢外壳中，并与洗涤器外壳相连。该系统以特定速率和受控温度向洗涤器室注入调节的纯化气体流量。气体洗涤作用可清除晶圆或掩模表面上的颗粒、灰尘和其他污染物。物理洗涤动作使用机械刷子组件，由位于洗涤器外壳下部的步进电机驱动。这种由各种清洁刷子组成的刷子组件将在其自身轴上旋转，并擦洗晶圆或掩模表面，以去除不需要的颗粒。可以根据需要调整旋转速率,以确保对晶片或掩模表面施加适当且一致的洗涤作用。晶圆和遮罩滑轨以及线性传递元件由不锈钢制成，具有坚硬/光滑的轴承表面。这样可以确保所有受控运动都能提供一个平稳一致的环境操作单元。可选的线性换乘机经过设计，在从一个站到另一个站的换乘过程中提供额外的保护。气体和物理洗涤动作结合在一起，提供一致和可靠的清洁性能。洗涤器及其组件设计为用户友好，只需极少的指导和培训即可操作。NRW-504 Wafer&Mask洗涤器提供了一种安全有效的清洗晶片和Mask的方法。洗涤器壳体采用单壁钢结构，符合清洁室作业10000级要求。控制工具、机器人控制的运动和数据跟踪功能相结合，在达到最高清洁标准时提供可靠和可重复的性能。