二手 NIKON NRW-504UV #9111289 待售

NIKON NRW-504UV Wafer&Mask Scrubber是一种用于半导体工业的自动化晶圆和Mask洗涤装置。它旨在减少人工清洁过程的工作量和风险。NRW-504UV具有可靠和坚固的自我清洁机制，能够有效地消除晶片和口罩表面的污染。它自动检测、收集和储存污染物，并高效清除污染物。该设备可以监控清洁过程，能够主动响应晶圆或掩模表面特性的变化。它还具有先进的控制系统,可以精确控制洗涤过程。NIKON NRW-504UV配备了强大的紫外线源，使得晶圆或掩模表面存在的死亡和休眠粒子可以被设备轻易探测到。它配有蒸气软管系统，用于清除碎片和污染物而不损坏晶圆或面罩。该设备还能够去除已嵌入晶圆或掩模中的表面颗粒。NRW-504UV提供出色的润湿和清洁性能，确保污染物迅速彻底清除。该装置可以在不同的环境下运作，包括正常的实验室、真空和超洁净室条件。该设备可靠性高,操作故障率低,并且具有易于访问的维护和校准点。NIKON NRW-504UV旨在实现安全高效的晶片和掩模擦洗,并将损坏风险降至最低。该设备旨在满足半导体行业的需求,非常适合需要清洁、无缺陷表面的日常产品制造商。NRW-504UV是任何洁净室和实验室的重要和宝贵的补充,有助于确保产品质量的安全和准确标准。