二手 ROTHSE RR 6141 #9294531 待售

ID: 9294531
晶圆大小: 6"
Inspection system, 6".
ROTHSE RR 6141是一个自动化的设备解决方桉,设计用于半导体制造过程和晶圆掩模洗涤应用。RR 6141是一款水平安装、自成一体、全自动的晶片掩模洗涤器,利用振荡运动,具有三种独立的清洗模式单面清洗、双面清洗、多层清洗。ROTHSE RR 6141设计用于执行各种洗涤操作。首先,RR 6141可以进行单面擦洗操作,即可以在单次运行中清洗晶片和掩模的一侧。其次,它可以进行双面洗涤操作,使得它能够在单个通道内完成晶片和掩模的两侧,最后,ROTHSE RR 6141能够进行多层洗涤操作,使它能够在多层晶片掩模上完成各种深度的清洁。RR 6141设计为以每分钟2000转的最高速度运行,提供了彻底一致的清洁性能。ROTHSE RR 6141配备了多种支持高效操作和使用的功能。该设备具有直观的数字控制设备和用户友好界面,可以将其精确配置为所需的清洁任务。RR 6141提供了广泛的工艺参数,允许用户选择所需的参数,如振荡运动方向、振荡频率、清洁周期持续时间和停留时间。ROTHSE RR 6141还装有传感器和监视器,以保持适当的操作并提醒用户注意潜在的维护问题。RR 6141利用气体管理系统不断采样清洁溶液并监测氧气和臭氧的水平。设备还装有自动检查装置,可扫描晶片和口罩的表面,以确保其清洁。ROTHSE RR 6141可集成到现有生产线中或作为独立单元使用。该设备采用模块化设计,便于重新布置和配置,以适应不断变化的生产需求。此外,RR 6141也被评为100级,并利用合成硝酸手套和HEPA过滤器为用户提供符合洁净室要求的设备。总之,ROTHSE RR 6141是一种综合高效的晶片掩模洗涤应用解决方桉。该设备提供各种洗涤模式、直观的数字控制以及广泛的工艺参数配置。该设备还配备了自动传感器和检测机,以保持高效运行和保持洁净室要求。
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