二手 RUDOLPH FE VII/IV #9398260 待售

RUDOLPH FE VII/IV是一种用于半导体制造的晶圆和掩模洗涤器。该装置由四个控制其洗涤、监视和卫生能力的独立电机提供动力。洗涤工艺旨在帮助减少制造过程中基板上的污染量。它使用正在申请专利的旋转臂技术，围绕整个基板表面旋转擦洗头。监控功能使操作员能够观察洗涤臂的状态并轻松进行调整，而卫生功能则有助于确保基板的最高清洁度。FE VII/IV能够擦洗直径达18英寸、厚度达1.36英寸的晶片。洗涤工艺是最先进的，利用硬化的硬质合金和柔软的硬毛刷来清洁基板表面的颗粒。这些旋转的刷子努力地穿透到人工擦洗可能不容易看到的区域。洗涤工艺也可以进行编程和定制，以适应特定的工艺要求。FE VII/IV还配备了1000瓦真空系统，以收集从基板上擦洗掉的任何颗粒。这种真空系统能够减少空气中的颗粒进入周围环境，提高基板表面的效率和清洁度。FE VII/IV的其他特点包括结构紧凑和能效。紧凑的车身便于安装到位,并且在设施中需要的空间也很小。该设备还仅在12V DC上运行，减少了其他洗涤解决方桉的能耗。RUDOLPH FE VII/IV晶片和掩模洗涤器是半导体制造过程中保持基板清洁的有效解决方桉。旋转擦洗臂、监视和卫生能力以及能效使其成为任何制造工厂的顶级解决方桉。