二手 SCHMID 352 #9124716 待售

ID: 9124716
优质的: 2009
Phosphor doper Wafer thickness: 200 μm to 320 μm Capacity: 3600 Cells / h at wafer 125 x 125 mm (1.5 M/min feed) Ambient temperature: 20 - 24°C ± 2°C Humidity: 48% to 54 % ± 2 % Phosphoric acid Concentration approx: 27% Mixing ratio: 1:3 With 85% acid Consumption approx: 0.4 l/h Temperature: 34°C ± 1°C (Internal regulation) Content vaporizer approx: 3 l Content supply tank: 50 l Water inlet belt cleaner: DI water Conductance: 1 μS Temperature: 20°C ± 3°C Consumption: 380 l/h at 2 bar inlet pressure Inlet pressure: < 4 Bar Working pressure: 3 Bar Cooling water: Infeed temperature max: 17°C Consumption: >300 l/h Inlet pressure max: 5 Bar Pneumatic: Inlet pressure: 6 to 10 bar Working pressure: 6 Bar Pollution: Drying Oil free Maximum: 5 μm / 5 mg/m3 Suction Working pressure: 0.5 Bar Connection dimension: 90 mm Exhaust air approx: 100 m3/h Power supply: 3-Stages /N/PE, 400 VAC, 50 Hz, 24 VDC, 8 A / Stage, 5.5 kW 2009 vintage.
SCHMID 352晶圆和掩模洗涤器是一种多功能、高效的工具,旨在满足高性能半导体加工部门的需求。这种晶片和掩模洗涤器利用最新的洗涤技术提供快速、准确和可靠的结果。它能够擦洗长达152毫米的晶圆直径和长达350毫米的掩模直径。352提供了全方位的运动,允许对复杂结构进行擦洗。利用旋转运动、垂直调节和可调节的洗涤速度来优化洗涤性能。这种灵活性可用于不同的洗涤任务,如清除厚厚的光刻胶层和去除颗粒而不损坏细腻的结构。这款晶片和掩模洗涤器配备了两台强大的SCR电机,具有可调压力和洗涤控制功能。这样可以确保整个洗涤过程既快速又有效。其坚固的结构和淬火效果有助于保持最高水平的清洁和精度。SCHMID 352配备了一个特殊的疏散臂和一个专利的双面刷毛刷子,能够对甚至笨拙的结构进行密集的擦洗。这样做不需要手动清洗刷子,从而提高工艺速度和安全性。这种晶圆和掩模洗涤器能够在14-44°C的大温度范围内工作。此外,352还配备了每小时1000升的净水系统,使磨砂溶液保持清洁和纯净,减少化学用量和占地面积。该系统连接到闭环过滤系统,该系统可回收磨砂液并有助于减少污染。总之,SCHMID 352晶片和掩模洗涤器是一种高效可靠的工具,具有无与伦比的洗涤性能。凭借其简单的设计和先进的洗涤技术,它提供了快速、灵活和安全的洗涤工艺,同时降低了工艺成本和污染。
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