二手 SSEC 300 ML Evergreen Series III #9140 待售

SSEC 300 ML Evergreen Series III是一款高性能晶圆和掩模洗涤器设备，专为当今苛刻的半导体制造工艺而设计。该系统提供了一系列先进的洗涤参数,以适应各种晶圆尺寸、材料和表面饰面。该单元由三个主要组件组成：晶片洗涤器、掩模洗涤器和晶片支架。晶圆洗涤器被设计成比其他的更积极的洗涤过程，同时尽量减少工艺时间和污染水平。高精度面膜洗涤器的设计达到了最佳的沉积均匀性，保持了较高的清洁度和精度。晶圆支架最多可容纳六个垂直堆叠的6英寸晶圆，以最大限度地提高晶圆吞吐量。晶片洗涤器包括两级工艺，具有预洗涤和后洗涤循环，以尽量减少晶片污染。预洗涤利用磨料浆料或清洁溶液在后洗涤循环之前清除晶片表面残留物。后洗涤循环旨在通过提供均匀的洗涤覆盖，进一步减少晶圆表面残留颗粒的数量。面罩洗涤器采用单级清洗工艺，由一系列海绵、小刷子和微磨料组成，用于清除碎屑和氧化碎屑。这些海绵将附着在遮罩表面的颗粒移出，而刷子则设计成轻轻刷掉光残留物。微磨料除去氧化和腐蚀，可减少蒙版蚀刻线宽。为了优化性能，SSEC 300ML EVERGREEN SERIES III机配备了自动晶圆和掩模洗涤站。该洗涤器站使操作员能够对各种晶圆和掩模尺寸、材料和表面饰面进行比人工洗涤器参数更好的快速、准确的编程。自动洗涤过程还可以提高吞吐量,提高光刻的均匀性和准确性。300 ML Evergreen Series III是制造集成电路器件、光学系统和其他需要精确抛光表面且无污染的半导体应用的理想选择。该工具采用自动化、高精度的洗涤工艺,可提供一致的晶圆和掩模表面,无碎屑和氧化,以实现最佳的光刻均匀性、准确性和屈服。