二手 SSEC 3300 #9302848 待售

SSEC 3300是一种晶片/掩模洗涤器，旨在去除光刻过程中可能降低感光表面质量或对产量产生不利影响的颗粒、有机化合物和其他污染物。该设备是一个单面平面（SSP）旋转器，配置了三步工艺，使用三种不同的湿式化学和冲洗浴液去除晶圆或面膜中的污染物。3300包括一个湿板凳，其中包括可容纳多达六个300毫米晶片或掩模的主晶片/掩模加工室，一个可容纳最多两个150毫米晶片或掩模的辅助室，以及一个可容纳最多两个450mm晶片或掩模的第三个大循环容器。系统的湿式板凳还包括升降机构和蒸汽发生器，以及温度和压力传感器。晶片/蒙版洗涤过程包括以下三个步骤：洗涤前、洗涤后和洗涤后。在预冲洗步骤中，首先将晶片/掩模浸入超纯水中，以去除晶片/掩模表面的颗粒和有机化合物。之后，晶片/掩模在溶剂等半水性、化学基溶液中洗涤，乳化并去除晶片/掩模中的颗粒、有机化合物和其他污染物。最后，晶片/面膜在第二个超纯净水浴中冲洗，去除残留的污染物。SSEC 3300还具有强大的空气传导循环单元,有助于确保腔室中的溶液始终处于运动状态并保持温度一致。这有助于增加晶片/掩模擦洗过程。此外，该机还包括自动晶片/掩模装卸工具，提高晶片/掩模洗涤过程的效率。该资产易于操作,可根据任何特定应用程序的特定擦洗需求进行定制。其符合人体工程学的设计也有助于提高操作员的舒适度和减少疲劳。最后，3300由耐腐蚀材料构成，因此可以承受光刻工艺的恶劣腐蚀环境。