二手 SSEC 3300 #9308967 待售

SSEC 3300是由Semes, Inc.开发的自动化晶片和掩模洗涤器,提供异常纯净、无尘的基材和掩模。洗涤器使用高压、电离和过滤的水来去除半导体器件生产产生的表面污染和材料积聚。三级清洗过程包括一个振荡喷雾棒、一个真空滚筒和一个旋转辅助装置。振荡喷雾棒产生均匀的水压和明显的喷雾模式，有助于在清洁过程的第一阶段悬浮并迅速清除细小的粉尘颗粒和任何其他颗粒残留物。使用强烈的喷雾模式和可调节的水压设置，3300可以有效地一次清理150个晶圆。第二阶段的洗涤利用可调节的真空辊来仔细清除晶圆表面上残留的任何残留物。滚筒的设计使表面保持清洁，而不会有颗粒或灰尘粘在上面。刷子也可用于可能需要额外清洁的更困难的颗粒。最后，洗涤的第三个阶段是使用自旋辅助来分解和提升任何顽固的微粒堆积。旋转辅助可以在可变速度下使用,以消除困难的污染.它还保证清洁剂的均匀分布或清洗在清洗过的晶片上。洗涤器的设计是使用由电阻表控制的电导率范围内的线水、过滤水和电离水。SSEC 3300非常适合擦洗在生产过程中暴露于空气中颗粒、灰尘和处理不当污染的晶片和口罩。洗涤器设计方便操作，维护简单，保证清洁精度和最大性能。它配备了自动循环计时器、低水监测功能和可调节的手动冲洗系统，对清洁过程提供了更大的控制。