二手 SSEC M3302 #9229623 待售
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ID: 9229623
晶圆大小: 6"
优质的: 2011
Wafer cleaning system, 6"
Designed for isopropyl alcohol (IPA)
N-Methylpyrrolidone (NMP)
Pipes: Ammonia and hydrogen peroxide
Modules:
Loading module
Unloading module
Processing module
Drying module
Processing plates in 3-stages:
Processing in an alkaline solution of caustic potassium
Processing in stream of deionized water
Drying in stream of nitrogen
Time of one cycle of processing a plate: 45-60s
Centrifuge rotor speed:
Treatment in alkali + washing deionized water: 30-300 RPM
Drying: 2500-3500 rpm
Accessories:
ACER Monitor
Processor block
Fastening for monitor and keyboard
Mouse
Keyboard
Power consumption: 208 V, 6.0 kVA, 3-Phase, 60 Hz
2011 vintage.
SSEC M3302是一种高性能晶圆和掩模洗涤器。这台机器的设计是为了准确有效地去除半导体晶片和光掩模基板上的表面颗粒。SSEC M 3302利用高压射流和真空萃取的组合，能够提供卓越的清洁效果。机箱完全由不锈钢制成，以抵抗化学物质，并便于清洗和维护。M3302配备了变速输送机，可以很容易地调整，以适应不同类型的晶圆和光掩模基板。这样,无论材料类型如何,都可以实现一致的清洁过程。在清洗过程中，M 3302利用刷洗和高压喷射水或化学剂的组合来辐照表面微粒。使用这种方法，SSEC M3302能够为最困难的清洁室应用程序提供彻底的清洁。SSEC M 3302配有可调流量阀，用于精确控制过程中使用的清洁介质浓度。为了保证最佳的质量结果，流量是可调的，以保持清洁介质与晶圆表面面积的一致比例被清洗。此外,对于希望在苛刻和软清洁解决方桉之间切换的操作员,M3302提供了预编程设置。这样,从一个清洁解决方桉到另一个清洁解决方桉,可以快速、轻松、安全地进行操作,而无需手动调整设置。为了进一步确保高质量的结果，M 3302配备了动态振动检测系统，旨在检测清洁过程中的任何异常振动。如果检测到振动,机器将立即关闭,以防止晶圆或光掩模受到任何损坏。SSEC M3302旨在提供一种快速高效的方式来清洁半导体晶片和光掩模基板。SSEC M 3302利用对其清洁溶液的精确控制以及强大的刷牙和高压喷射系统,即使在最坚韧的清洁空间应用中也能确保质量清洁。此外，凭借其可调的流速和预编程设置，这台机器提供了一种快速简便的多种方法清洗多种基板的方法。
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