二手 SSEC M3302 #9236399 待售
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ID: 9236399
优质的: 2005
Single wafer etcher
Main protector interrupt rating: 10,000 Amps
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 60 Hz, 30 A
2005 vintage.
SSEC M3302晶片和掩模洗涤器是用于半导体制造的晶片和光掩模的精密清洗设备。它被设计为提供高洗涤性能的同时增加吞吐量和最小化磨损损失。SSEC M 3302晶片和掩模洗涤器采用工业级、多合一的设计,采用尖端技术,旨在跟上当今半导体市场的需求。它配备了四个洗涤模块，每个模块具有三个洗涤器，具有可调速度和功能，允许广泛的洗涤速度和模式。它还具有一个可编程的洗涤盒芯，允许快速的设置时间，精确的控制，以及高洗涤效率。M3302晶片和掩模洗涤器的主要部件包括除尘除粒装置、洗涤站、精矿输送设备、精矿管理系统、光掩模保护装置、自动晶片处理机。除尘和除粒装置可过滤尺寸小于0.003微米的颗粒，以确保在洗涤前清除所有不需要的碎片。擦洗站由三个擦洗头组成，可在任何给定时间擦洗多达35个晶片。此外,还可以调整刷子压力,以确保洗涤一致性的一致水平。精矿输送工具的设计既准确又可靠。它配备了超声波精矿资产，无论晶圆或光掩模材料如何，都能提供卓越的清洁性能，不会浪费或污染基材。此外,精矿管理模型可确保为每个应用程序提供正确数量的精矿。光掩模保护设备通过使用有助于在擦洗过程中保护光掩模的电磁屏蔽过程，确保在擦洗过程中避免任何异物或棒颗粒。最后,自动晶片处理系统提高了吞吐量和可靠性,最大程度地降低了在手动处理过程中可能发生晶片划痕的风险。必须注意的是，M 3302晶片和面罩洗涤器必须在洁净室环境中处理，以确保最大限度的清洁和防止污染。此外，还必须定期维护设备，因为清洁不当会降低洗涤效率。
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