二手 SSEC M3303 #9031262 待售

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ID: 9031262
优质的: 2006
Single wafer wet processing and cleaning tool Dual cassette loader Dell GX270 Optiplex and 15" LCD monitor 208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 40 A Used with Chemicals NMP and isopropyl alcohol 2006 vintage.
SSEC M3303晶片和面膜洗涤器是一种自动、全自动的机器人洗涤器,旨在清洁和擦洗晶片和面膜中难以触及的缝隙。凭借超现代的设计和极高效的性能,它提供了一种高效环保的半导体晶片和掩模清洗和擦洗方法。SSEC M 3303晶片和掩模洗涤器使用CNC控制设备运行,使其简单可靠,可继续运行。由三台电动机供电,功率400伏,最多可同时处理八个晶圆和四个掩模。洗涤器由两个独立的站组成,一个清洁站和一个清洁站。在清洁站内,每个晶片和面膜都使用专利的高速超声波清洗系统清洗。通过360度的设计,每个晶片和掩模的所有表面都被有效地擦洗,甚至在表面之下。当气泡暴露于水/肥皂溶液中时,气泡会从晶片和遮罩表面除去。这样可以确保晶片和掩模表面尽可能干净。在清洁站,晶片和面膜使用机械擦洗机刷单元或空气洗涤器擦洗。机械机使用小磨砂刷,在晶圆或掩模表面来回摆动。随着刷子来回移动,它会清除任何矿渣、残渣、灰尘和其他可能被困在晶圆或掩模表面下的颗粒。空气洗涤器连接到真空工具,以去除机械洗涤器过程中可能没有去除的任何小颗粒。M3303利用多个安全传感器提供安全保护。洗涤器包括压力传感器,如果检测到任何故障或危险情况,该传感器将自动关闭洗涤器。它还包括一个自动维护功能,可监视任何潜在的机械问题,并在需要时停止洗涤操作。洗涤器具有警报资产,如果机器需要维护,该资产将立即通知操作员。总体而言,M 3303是一个非常高效和可靠的晶圆和掩模洗涤器.其获得专利的超声波清洗模型和双站设计使其成为任何清洁或洗涤应用的理想选择,先进的安全特性确保其始终以最佳和最安全的方式工作。
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