二手 TEKNEK CM80600RLF3 #9180564 待售

TEKNEK CM80600RLF3 Wafer&Mask Scrubber是一种革命性的半导体晶圆制造清洁解决方桉。利用先进的洗涤技术，可以快速有效地清除晶片和掩模中的颗粒和残留物。CM80600RLF3设计用于在任何环境中工作,还可以通过不到两分钟的清洁周期来减少生产停机时间。TEKNEK CM80600RLF3使用两个位置紧密的热空气喷射器操作，提供一股热气流，用于均匀的颗粒去除。喷嘴配置性强，喷嘴方向和空气温度可调节。这样可以确保热空气的爆炸直接针对任何颗粒，使其更容易清除。洗涤器还设有集成喷嘴旋转装置，可以水平移动45度，垂直移动30度，提供最佳的清洗角度。由于其强大的吸力系统，CM80600RLF3可以快速而精确地收集所有的颗粒和残留物。系统过滤出小至0.2微米的颗粒，并具有可调的羽化速度，让使用者精确控制吸力强度。吸力系统也是可调的，使用户可以为任何种类的任务设定正确的吸力。除了清洁外，TEKNEK CM80600RLF3允许用户在清洗后快速、精确地"调整"口罩。通过利用喷嘴旋转的便利性，用户可以调整上、下、左、右方向的蒙版设置。它也可以作为进、出晶片或掩模的粒子计数器，允许在制造过程中完全可追溯。CM80600RLF3 Wafer&Mask洗涤器设计高效、可靠且用途广泛。其先进的技术使其成为半导体晶圆制造的强大清洁解决方桉，其可扩展性允许将来根据需要进行升级。TEKNEK CM80600RLF3具有快速的清洁周期和精确的清洁能力,一定能为任何晶圆和掩模制造设施带来更高的效率和成本效益。