二手 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ #9182405 待售

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图为 已使用的 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ 待售
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已售出
晶圆 & 光罩清洗机
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Cellesta+
ID: 9182405
晶圆大小: 12"
优质的: 2011
Single wafer processing system, 12" Application used: FEOL Chamber 2-1: Process: SC1 Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm with IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-2: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-3: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-4: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-5: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-6: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-7: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-8: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-9: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-10: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-11: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-12: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Currently stored in cleanroom 2011 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta+是一款顶级的晶圆和掩模洗涤器，专为高精度半导体晶圆生产而设计。强大的洗涤机构进行彻底清洗，不会对晶片表面造成任何损坏或污染，而先进的清洗算法则适应不同的技术，提供可靠、一致的清洗过程。TEL Cellesta+配备了高性能的除尘器，利用强大的气流进行高效的除尘过程。它既能处理绝缘子硅（SOI）晶片，又能处理直径达8英寸的散装晶片。晶片外壳内部有一个清洁平台，由工业级洗涤刷和增加清洁表面与晶片表面接触面积的音频振动喷嘴组成。这种结合的技术创造了高效的清洁操作,具有最小的延迟和较低的运营成本。TOKYO ELECTRON Cellesta+还拥有集成视觉系统和独立光源进行无缝表面检查。它可以检测到表面损坏、污染、微机架、矿坑和其他潜在的生产问题,然后提醒用户需要解决的任何问题。这种实时反馈有助于确保晶圆质量在整个生产过程中得到维护。洗涤器是环保的，是由一个强大的安全系统支持。它设计用于在停电时自动关闭,并提供低噪音操作。此外,它的高端控制单元还提供远程命令和错误诊断,从而能够有效地排除故障。总体而言,Cellesta+提供卓越的晶圆清洁、表面视觉和灰尘提取功能,使其成为先进晶圆生产的理想解决方桉。
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