二手 ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SWC 111M #9196279 待售

ID: 9196279
Sawed wafer cleaner Photo mask Substrate High pressure DI water cleaner: Sawed / Scribe wafers or masks Microprocessor control Oscillating high pressure: 2500 Psi wash With filtration 0.2 u Variable spin speed dry cycle With N2 assist CO2 Re ionizing 4 x 4" chuck Bowl diameter: 17.5".
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SWC 111M是晶圆和掩模洗涤器。这款洗涤器设计用于6"至8"晶片和口罩的洗涤和清洗。它包括高功率的双轴洗涤能力,用于清洁晶圆和掩模表面的灰尘和颗粒。洗涤器配有符合人体工程学的悬挂式手柄臂,可调节,确保使用舒适。它还具有低重心,以确保在洗涤过程中良好的平衡和稳定性。它采用封装泵设计,采用独特的封闭式轴承设备,防止泄漏并提供更平稳的操作。洗涤头配备了可调节的速度,以考虑晶片或面罩的大小和所使用的磨料的类型。调整范围为0-30 RPM。也有增加多功能性的反向功能,允许从晶圆或掩模的两侧清除碎片。洗涤头的速度可通过变速前向和反向开关调节。旋转垫存储系统旨在确保有效清洁。垫片牢固地固定在适当的位置,以便在洗涤过程中稳定地流动磨料,并且旋转可以快速方便地进行维护。该产品还采用微处理器控制,便于自动化和高效利用时间和精力。UTE SWC111M包括符合UL 567标准要求的综合安全联锁单元。这台机器防止在发生内部故障时进行任何进一步的操作,保护操作员和洗涤设备。其他安全功能包括一个维护钥匙,用于锁定未经授权的人员,以及一个LED指示灯,用于显示操作员洗涤头所在的方向。ULTRA-T EQUIPMENT SWC-111M是一种可靠高效的洗涤器,适用于多种应用。它是一种强大、高效的产品,可帮助减少清洁时间并提高最终产品的质量。凭借其可调的速度和符合人体工程学的设计,该产品既用户友好又可靠。
还没有评论