二手 ULTRATECH PC 602 #164140 待售
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![ULTRATECH PC 602 图为 已使用的 ULTRATECH PC 602 待售](https://cdn.caeonline.com/images/ultratech_pc-602_221511.png)
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已售出
ID: 164140
Wafer photomask plate cleaner
Specifications:
Uses high pressure jets to effectively clean particles from plates
High Pressure Pump Option
Brush Option
(1) 5" Chuck (Installed)
(1) 4" Chuck
(2) 3" Chucks
The brush unit is missing a belt in it
The unit has a broken switch on the controller
As is.
ULTRATECH PC 602是一种晶圆和掩模洗涤器,设计用于清洁和抛光半导体生产中使用的晶圆和掩模。它的设计既可靠又符合成本效益。PC 602专为大批量生产而设计,具有广泛的产品配置,旨在满足不同的客户需求。ULTRATECH PC 602具有坚固耐用的不锈钢洗涤室,适用于大批量生产环境中的重型洗涤任务。洗涤室配有两轴晶片/面罩清洁设备,提供彻底、精确的清洁。这种双轴系统支持晶片和掩模的单面和双面清洗。此外,洗涤室容纳了广泛的晶圆和掩模尺寸,包括1-3/8英寸、1-7/8英寸和2英寸晶圆。洗涤室配有先进的PC 602可编程过程控制单元(PPCS),可快速设置和轻松维护洗涤条件。PPCS机器采用触摸屏控制面板,具有各种自动和手动操作的洗涤参数设置。这些参数允许精确控制洗涤周期,并确保可重复、高质量的结果。ULTRATECH PC 602专为方便安装在干式工作台或引擎盖上而设计。它由230V的60Hz电动机提供动力,并具有进气和排气工具,以确保最佳的洗涤气氛。此外,该装置还配备了一个两加仑的废物容器,便于清洗后进行高效清理,并确保不会将危险化学品释放到空气或环境中。PC 602是一款可靠、耐用、经济实惠的晶圆和掩模洗涤器,适用于大批量生产环境。其先进的洗涤资产确保了彻底和精确的清洗,其PPCS模型提供了对洗涤周期的精确控制,以获得一致的、可重复的结果。它易于安装和维护,使其成为任何寻求可靠晶片和掩模洗涤器的人的理想选择。
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