二手 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293627839 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293627839
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Wafer cleaning system, 12"
(8) Chambers
(4) Load ports
Powerbox
Densimeter
E-Flow
DVR
Chemical supply: HF, H2SO4, H2O2
Nozzle:
Chemical (Spin 1-8)
Side rinse
E-Flow (Spin 1-8 and front)
Nano spray
Rinse back rinse
UMC Controller
Index R IDA
(2) CR Stages
Spin unit:
Left: 5, 6, 7, 8
Right: 1, 2, 3, 4
IR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
Arm Y-Axis servo-motor
OARM X, Y-Axis stepping-motor
CR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
ARM Y,Z AC Servo-motor
Missing:
Hard Disk Drive (HDD)
Fire suppression
DI Resistivity sensor: AS
Flow meter sensor: RK
Power supply: 220 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Full Load: 32kVA, 88A, 60 Hz
3 Wires with GND/PE
Breaker rate: 110A
SCCR: 10kA
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100是利用反应性离子蚀刻（RIE）和化学机械抛光（CMP）技术制造半导体材料制成的产品的湿加工站。湿式工作站可实现精确和可重现的蚀刻和抛光工艺，以获得表面粗糙度最小的高质量基板。湿式站由具有内部真空设备的耐化学不锈钢室、离子源、电阻加热元件、机械晶片载体和一系列工艺气体组成。该腔室还配备了多个端口插头，用于连接其他真空系统和工艺部件。该腔室还包括一个载荷锁，用于将晶片送入和送出腔室，而不会使其暴露于环境大气压。离子源用于为过程气体通电，产生密度和组成可控的等离子体。加热元件用于控制蚀刻过程中的压力和温度，而机械晶片载体则确保晶片在整个过程中牢固地固定到位。腔室还设有用于排出工艺气体的高真空泵，以及用于排出蚀刻反应副产物的排气口。为了保持安全、清洁的工作环境，湿站还配备了空气擦洗系统和自动输氮装置。空气磨砂机从进入的空气中清除颗粒物和其他污染物，而氮气输送工具在室内保持一致的过程气氛。湿站提供了高度精确的蚀刻能力和先进的工艺监控，使产品的生产具有极高的精确度和可重复性。它能够加工不同的材料类型，如金属、氧化物、聚合物和化合物。此外,它采用模块化体系结构进行设计,可轻松升级以满足客户需求。
还没有评论