二手 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293813602 待售
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ID: 293813602
晶圆大小: 12"
优质的: 2014
Wafer cleaning system, 12"
Indexer robot
(4) FOUP Carriers
(6) Auxiliary units
Front PF:
Shuttle unit
Reverse unit
TOWER1: MPC1/2
TOWER2: MPC3/4
Rear PF:
Center robot
TOWER3: MPC5/6
TOWER4: MPC7/8
Side Cabinet:
DDI SC Chemical supply system
Chemical type: NH4OH, H2O2, HCL
HT‑H2SO4 SC Chemical supply system
External cabinet:
(2) DHF CC Chemical supply systems, mixing rate: HF49% : DIW = 1–50 : 500
(2) dSPM+ CC Chemical supply systems, circulation temperature: RT–50°C
SPM Drain cooling system
NanoA Pump unit
IPA CC Supply system
E‑Flow unit
Main power box
Power supply
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100湿站是为半导体制造工艺设计的专用清洁设备。该湿站结合了一系列技术与精密输送,实现了高精度的清洁性能。它具有先进的视觉系统,能够对晶片进行上下级检查,并结合了可以量身定制以满足用户需求的手动和自动化工作站功能。DNS SU-3100由一个主单元及其源室、聚合物清洁室、气体注入室和洗涤室组成。源腔的设计目的是提供化学物质在晶片上的均匀流动,以便清洁。聚合物清洁室利用先进的过滤器在固体到达晶片表面之前将其分离出来,确保表面清洁,不受有机污染。气体注入室在清洗过程中添加反应性气体,以优化每个加工阶段的化学反应。洗涤室还配有可编程阀门,用于控制化学品在整个晶片上的流动。这是一个先进的功能,在清洗多个位置的多个晶片时允许更大的控制和准确性。这些组件和单元操作的组合确保了高性能和最小化的过程偏差。DAINIPPON SU 3100还包括一系列辅助设备,以提高本机的通用性和效率。这包括一个减少化学飞溅的化学窗帘和一个多文丘里清除工具,以尽量减少污染的风险。还有一个快速干燥的特性有助于消除颗粒迁移的风险,以及一个涡轮闪光干燥资产来快速有效地干燥晶圆表面。DNS SU 3100还具有完全自动化的功能。这允许用户远程和即时对作业进行编程和调整流程参数。这样就可以更快、更精确地进行模型操作,并以最小的干预来确保最佳性能。此外,SU 3100还包括高级监控和反馈系统,使其能够实时调整流程以获得最大的效果。总体而言,DAINIPPON SU-3100湿站是一种功能强大且用途广泛的设备,旨在满足半导体制造工艺的需求。凭借其广泛的功能、先进的精密交付和全面的自动化,该系统能够实现同类产品中最高的性能和准确性。
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