二手 ETEC Mebes 4 #9252186 待售

ETEC Mebes 4是一种先进的口罩生成和生产设备，设计用于生产商用和军用的集成电路口罩。该系统基于一个开放的体系结构平台，允许各种软硬件组件的集成。它能够支持步进、扫描电子束以及光栅和矢量绘图仪等各种光刻过程。该单元的第一个模型是以提供一种通过使用各种精密算法生成集成电路掩码的有效方法为目的而构建的。它采用了一些特点，以提供最佳结果。这些功能包括补偿过度曝光、侧壁平滑、未对准和孔径大小。机器还能够定义高分辨率的掩模模式并执行曝光控制。除此之外，Mebes 4还有能力支持各种晶圆尺寸的集成电路掩码的生成。这种能力允许生产适合不同应用的口罩。该工具还利用高精度的研磨和蚀刻技术来生产高质量的口罩。软件方面，ETEC Mebes 4资产运行着着名的光子曝光工具（PET）软件。该软件旨在为用户提供必要的工具，以创建高质量的集成电路掩码。它还包含一个预定义布局模板的大型库,可用于创建各种布局定义。该模型高度自动化,允许自动对齐、放置、曝光和制造等自动化过程。它具有许多功能,使其成为制造集成电路掩码的强大工具,包括能够在单个操作中定义高分辨率结构以及大型结构。Mebes 4还为用户提供必要的设计规则,以创建符合当前行业标准的掩码。这是通过实施设计规则检查器（DRC）以及可配置设计规则库来实现的。该设备连同其复杂的算法，是生产集成电路掩码的宝贵工具。