二手 EBARA CADS HVM #9112898 待售

EBARA CADS HVM是EBARA开发的光刻设备，可实现快速、精确的光刻工艺。该系统能够在微电子器件上创建高精度的金属线和其他图样。该单元采用电子扫描机，配有先进的激光光学器件，广泛的光阻化学物质，以及高性能的掩模对准工具。CADS HVM资产包括一个高精度激光源，照亮敏感的抗蚀膜。然后根据需要打印的图样对激光束进行调制，然后将光束定向到抗蚀层上。然后使用先进的光学模型将光束直接投射到抗蚀层上以进行高分辨率图样绘制。EBARA CADS HVM还使用高精度的掩模对准设备，将图样精确定位和图样传递到抗蚀层。该系统能够打印尺寸小至0.05 um、间距高达180 um的图样。该单元还提供了集成的梁轮廓控制,以便能够精确地再现复杂的图样。CADS HVM机还具有一系列光阻化学物质,可用于各种应用。该工具对波长、温度和光阻化学物质的精确控制，提供了良好的抗蚀剂与基板的粘合，并确保了高度精确的图桉。为了确保精确的阵列,EBARA CAD HVM还配备了集成的软件和硬件诊断系统。它们可以检测资产中的错误,如低功耗激光源、掩模对准器中的偏差以及光阻化学物质中的任何错误。总之，CADS HVM模型是一种先进的光刻设备，它提供了高分辨率的快速、精确、精确的微电子器件阵列。其集成的掩模对准系统、光阻范围以及先进的激光源，在多种应用中提供卓越的性能。综合诊断系统也提供了极好的准确性和质量保证。