二手 EBARA UFP 200A #9192490 待售
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EBARA UFP 200A是为在半导体晶片上沉积光刻胶而设计的全自动光刻胶设备。它能够在整个晶片表面沉积和旋转光致抗蚀剂，无需人工干预。该系统使用自旋化学前体在晶圆上沉积一层均匀的光致抗蚀剂。UFP 200A单元具有一个串联工艺室，旨在促进整个晶圆表面的均匀涂层。其晶圆加热机在抗蚀层的精度上允许更高的精度。该工具还包括一个集成的自旋速度和时间监视器，以确保抗蚀层在整个晶圆表面上的均匀分布。EBARA UFP 200A资产还带有一个集成的曝光后烘烤模块,该模块可提供高达200 °C的烘烤后温度,整个晶圆的温度分布均匀。此外，该模型还带有原子力显微镜，可以精确测量暴露后的抗蚀性厚度和表面粗糙度。UFP 200A设备还具有高精度的闭环步进系统,可在曝光过程中对准晶圆。这样可以确保在垂直和水平方向上精确对准曝光。此外,设备还具有安全互锁功能,可防止机器启动该过程,直到整个晶片正确对齐为止。这样可以确保准确、高效地执行该过程。最后，设计了EBARA UFP 200A工具，提供了一种简便高效的光刻工艺探索方法。该资产能够快速准确地执行过程的沉积和纺丝步骤，从而在探索新的光刻胶配方时缩短周转时间。
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