二手 EBARA UFP 200A #9198040 待售

EBARA UFP 200A是为满足光掩模生产的高端要求而设计的最先进的光刻加工设备。它能够产生高分辨率特征和小于4.5 μ m的线宽。该系统利用波长为405 nm的激光光源在所需基材上的光敏层上产生图像。光刻胶是先进光刻工艺中最重要的部件之一，应用于半导体制造的图样基板上。UFP 200A采用了先进的光束扫描技术，如扫描和线路编码以及图像元素，从而实现了模式的自动化和高精度再现。该设备还配备了Industry 4.0功能,即使工厂车间以外的环境条件波动,也能保持生产条件的稳定。EBARA UFP 200A还提供卓越的图像质量和高对准精度以及精确的特征和线宽控制。UFP 200A具有可调节的聚焦距离,可以使用各种基板,同时保持相同的精度和分辨率。EBARA UFP 200A可实现多层曝光,它具有内置运动轴,可使基板在光刻胶薄膜层之间平稳移动,而无需外部定位。此外，机器由于其恒定的激光功率输出而具有很高的线性度，在整个曝光场中保持一致的分辨率。为了安全起见，UFP 200A还配备了有毒蒸气净化工具。此资产可过滤出有害气体,以确保用户在操作机器时保持清洁环境。EBARA UFP 200A还具有一种快速起动的气闸模型,可确保基于精度的操作,并具有最小的噪声和几乎没有振动,使机器甚至符合最严格的标准。总之,UFP 200A是一种为先进的光刻工艺而设计的可靠可靠的机器.其自动化和先进的运动扫描能力,以及高对准精度和图像质量,使其成为制作光掩模的理想选择。此外，其有毒的蒸气净化设备和空气制动系统提供了更多的灵活性和安全性。EBARA UFP 200A是那些寻求可靠和高端光刻加工的人的绝佳选择。