二手 EBARA UFP 300A #293637224 待售

EBARA UFP 300A光刻设备是在电子元件的原型设计、制造和维护方面实现高质量成果的通用、强大的工具。该系统采用紫外线（UV）光，以广泛的不同光敏材料实现高分辨率掩蔽。这台机组配备了高效的Quartz-Halogen光源，以产生0.5至2.5 kW的紫外线光源，最大限度地提高光通量，并允许对光刻胶层的精确控制。它还具有一个高保真液晶成像机，允许用户预测和快速响应面罩的变化或设计变化。EBARA UFP-300A工具还具有三个可互换的掩蔽头,允许以不同的分辨率进行掩蔽,范围从1/4到0.001英寸（6-254微米）。这一分辨率范围允许精确掩盖正在处理的材料中复杂的地形变化。遮罩头还具有可调真空级控制，以提高精度，以及可变波长滤波器，以实现最佳的光吞吐量。UFP 300A资产还配备了广泛的工艺方法灵活性，允许各种不同类型的光刻胶材料以及操作前和操作后周期。可以使用不同类型的掩蔽，如一级或两级工艺、超导、照相或干膜工艺。另外，不同类型的清洁剂、显影剂溶液和粘合剂可以在术后周期中使用，以达到所需的结果。此外,该模型还旨在简化维护和校准过程。这款设备融入了直观的控制系统，让操作员通过控制面板的一些简单触摸来调整曝光时间和强度等参数。它还具有一个全面的诊断程序,可以快速准确地识别设备中的任何潜在问题。UFP-300A光刻机是在制造电子元件方面取得高质量成果的一种强大而可靠的工具。它具有多种可调参数、多种工艺方法和清洁剂，是高精度原型制作的理想工具。