二手 EBARA UFP 300A #9132639 待售

EBARA UFP 300A是一种高性能光刻设备，设计用于处理标称分辨率为0.5-2.0微米的单曝光和双对比度半导体晶片。该系统包括一个紧凑的固定式铝抗蚀剂涂层单元，能够控制抗蚀剂的速度、体积和溷合比，以帮助优化晶片涂层。涂层装置利用EBARA专利喷嘴技术，提供精确、可重复的理化涂层性能。该单元还包括一个先进的、自给自足的后工艺开发模块，内建有光刻胶油墨分发器和后工艺、空气清洁站。该模块可以处理尺寸可达300 mm的晶片,并提供精确、可重复的开发、蚀刻和剥离过程,且对晶片清洁度的影响最小。清洁站采用氮气喷涂，保证了高质量的无通量工艺。该机具有优异的分辨率和高质量的表面成像，并提供了在晶圆水平控制光刻膜厚度相对和绝对差异的可能性。该工具支持批处理和连续处理，并具有开放的电气模块结构，其灵活性足以纳入其他过程。此外,EBARA UFP-300A还包括一个用于连接到主机资产的内置接口,允许对模型进行全面的在线监视和控制。该设备具有直观的图形用户界面（GUI）和坚固的设计以及低备用功耗,可实现用户友好的操作。UFP 300A还具有200 GB的内存容量,即使是来自多个供应商的要求最苛刻的软件应用程序也是如此。综上所述，UFP-300A是一种设计用于半导体晶片加工的高度可靠和用户友好的光刻系统。它能够产生具有单一曝光和双对比度的高质量图像,并提供定制的用户友好的GUI,以便对设备进行完整的在线监控。该机是现代半导体加工业的经济高效解决方桉。