二手 EBARA UFP 300A #9185406 待售

EBARA UFP 300A是一种光刻设备，旨在为先进的半导体应用开发高通量工艺。EBARA UFP-300A为硅片制造提供先进的工艺能力,如蚀刻速率控制、光刻平面化和光刻修复。该系统包括三个组件：光刻剂喷雾器、掩模对准器和相关平台。装置中的光敏喷雾器设计用于控制抗蚀性涂层的厚度、均匀性和可靠性。蒙版对齐器用于对齐蒙版、应用图样以及与硅片接触。平台提供喷雾器和掩模对齐器之间的接口。这个平台包括一个带有变速机器人手臂的晶圆处理单元、视觉转向机以及控制机器人运动的线性定位器。平台由用户友好的图形用户界面控制，使操作员更容易使用该工具。UFP 300A配备了一个数字资产控制单元，控制模型的各种功能。这个控制单元能够计算设备的操作条件，以及调整机器人手臂的速度。它还使操作员能够检查系统中每个设备的状态。此外,控制单元还能够显示有关单元性能的数据,如晶片上光刻胶的粘附率、光刻胶的蚀刻率以及机器的整体吞吐量。UFP-300A提供了广泛的功能，旨在提高半导体制造工艺的产量。它配备了高速自动对齐器，以更快的基板操控和提高可靠性。该工具还包括一个碎片清除资产和一个自动光刻剥离装置，以减少停机时间。此外，该模型的高精度模式传输设备的设计，以确保准确的结果。EBARA UFP 300A由于其可扩展性和灵活性,也非常适合大批量生产运行。该系统可以定制以满足客户的需求,包括定制的组件、附件和选项。该单元可以很容易地适应不同的应用，从而能够同时生产单层和多层设计。EBARA UFP-300A还配备了用于监视和优化过程的高级跟踪机器。总体而言，UFP 300A是一种创新的光阻工具，具有广泛的功能，旨在最大限度地提高半导体制造工艺的效率和产量。该资产旨在满足先进半导体应用的需求，提供高吞吐量的过程和可靠的结果。