二手KARL SUSS / MICROTEC(光阻)待售 - 页面 #2

Karl Suss/Microtec是一家着名的用于半导体工业的先进光刻设备制造商。他们的光刻胶系统因其出色的性能、可靠性和多功能性而获得普及。它们的显着类似物之一是ACS 200，这是一种为掩模对准器设计的高分辨率光致抗蚀剂系统。它具有出色的附着力、稳定性和可重复性,非常适合需要精确对齐的应用。Karl Suss/Microtec的另一个值得注意的产品是RC 8。这种光刻系统是专门为先进的光刻工艺而开发的。它提供卓越的分辨率、出色的图样保真度和卓越的耐化学性，使其适合广泛的应用，包括MEMS和光电子。伽玛是Karl Suss/Microtec的另一种流行的光阻系统。它是一个负色调的光刻系统，提供高长宽比，坚固的附着力，以及出色的蚀刻阻力。伽玛通常用于生产微结构和深层反应性离子蚀刻（DRIE）工艺。Karl Suss/Microtec光致抗蚀剂单元的优点包括高分辨率、出色的附着力、优越的图样保真度以及卓越的耐化学蚀刻性能。这些机器实现了精确的对齐、精确的阵列和一致的结果，满足了半导体行业的苛刻要求。综上所述,Karl Suss/Microtec光阻工具（如ACS 200、RC 8和Gamma）提供了先进的性能和多功能性。它们因其出色的附着力、分辨率、图样保真度和耐化学性而受到半导体制造商的信任，使其成为各种光刻工艺和微观结构生产的理想选择。