二手 PURE AIRE UF72AE #9303096 待售

PURE AIRE UF72AE光刻设备是一种先进的、经济高效的解决方桉，用于控制材料的沉积和确保模式转移的可重复性。在光刻过程中，使用UV Exposure of resists是为了在半导体晶片内定义蚀刻窗和创建电路模式。UF72AE是一个多功能的光刻系统，提供了显着的精度和灵活性。PURE AIRE UF72AE能够处理高达200 mm的晶片,只需一次曝光,且失真最小。这要归功于两个光束点的间隔和实时调整以达到最佳聚焦。此外，UF72AE还设计了先进的照明装置，以确保紫外线的均匀分布和最大的节能。这有助于降低暴露过程之前的成本,并始终提供高质量的结果。为了保持其准确性，PURE AIRE UF72AE采用了最新的数字控制技术进行可重复设置。UF72AE的微精度光学元件保证了机器在不同晶圆尺寸上保持聚焦精度。通过多个滤波器进一步增强了这一点，从而确保无论基材厚度变化如何，模式转移都保持可重现。此外,PURE AIRE UF72AE与所有标准光刻材料兼容.这使得它可以快速设置用于各种类型的作业并容纳任何类型的基板。此外,它的专利自动统一曝光工具允许完成多个作业,而无需任何手动调整。这一切都要归功于它内置的传感器，这些传感器不断调整曝光参数以获得最佳吞吐量。总之，UF72AE是一种先进的、具有成本效益的光致抗蚀剂资产。它能够在多种基材尺寸上精确蚀刻图样并保持最佳聚焦，因此是任何光致抗蚀剂工艺的理想解决方桉。其数字化控制技术、灵活兼容性和自动均匀曝光模型确保了模式传输的可重复性和准确性。这确保了PURE AIRE UF72AE将仍然是所有光刻胶应用的可靠且经济的选择。