二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9162773 待售

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ID: 9162773
晶圆大小: 8"
优质的: 1988
CVD System, 8" Wafer type: Notch Narrow body load locks Manual lid hoist HP Robot (4) Chambers: A, B, C, D – DxZ Silane oxide Direct drive throttle valve AE RFG 2000-2V 10Torr Baratron 100Torr Baratron Gasses (Unit MFCs) 300cc N2O 3SLM N2O 5SLM He 3SLM CF4 150cc SiH4 5SLM N2 Seriplex gas control Chamber E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind 1988 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一种先进的蚀刻/反应性离子蚀刻(RIE)反应器,设计用于制造集成电路。DxZ能够对基材进行蚀刻、清洁、离子注入和热处理。该工艺室采用不锈钢制成,耐腐蚀,具有用于基材加工的集成阴极和阳极,以及用于精密蚀刻的自动调谐系统。DxZ配备了最新的气体控制技术,包括气体流量监测仪和带有多选择喷嘴的气柜,以实现一致的流量。反应堆具有深陷阱配置以最大化蚀刻速率和质量,以及两个优化质量流动均匀性的气体歧管。联锁和安全功能确保在停止或重新启动操作时进行正确的操作,并且自动调整系统可确保操作过程中的精确蚀刻。DxZ配备了先进的基板装载机,可精确处理多达三十二种大小的基板。硼硅酸盐玻璃顶部的设计提供温度均匀性和散热性,而脉冲屏蔽层增加等离子体均匀性,减少晶片碰撞。射频阻抗匹配网络提供安全、准确的供电。DxZ还配备了液氮循环冷却单元、射频热管理等先进冷却系统,以实现最佳冷却性能。AMAT Centura DxZ设计为可靠高效的生产级蚀刻/RIE反应堆。先进的气体控制技术、高工艺温度均匀性、可容纳多达32种基板和射频阻抗匹配网络,确保最大蚀刻速度、精度和产品质量。DxZ的高吞吐量、优化和性能使其成为高价值和高产率应用集成电路生产的理想选择。
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