二手 VEECO / EMCORE E450 #9283612 待售

VEECO/EMCORE E450反应堆是为半导体应用设计的高精度等离子体蚀刻设备。该系统设计用于制造固态器件、光电子和光学系统。VEECO E450提供了业界最高的性能和最精确的蚀刻工艺。该平台提供了多种参数、精度、稳定性、选择性和可重复性，以增强过程控制。EMCORE E450具有先进的等离子体源设计,可在整个晶圆平面上提供均匀的气体等离子体密度。此功能使设备能够在各种设备设计中提供最佳的蚀刻性能。源设计使机器能够提供低离子能量的高蚀刻速率，以及精确的蚀刻宽度控制能力。E450设计为在高压下有效工作，提供精确的蚀刻选择性。该工具可配置为可处理各种气体,包括F2、C4F8、SF6、NF3和CHF3,从而提供了一个通用的蚀刻平台。此外，VEECO/EMCORE E450能够提供高蚀刻速率，而不会产生大的等离子体不稳定性。集成的VEECO E450资产包括一个精密的供气包、一个在蚀刻过程中将中央电极输送到晶圆平面的高精度机构以及一个集成的硬件接口平台。该平台旨在提供与其他模型组件的无缝集成。这使得反应堆可以在各种工艺设置中运行，例如批量和单晶片处理。设备的高精度机构允许对微结构进行精确和可重复的蚀刻。该机构还能够将中心电极传递到晶圆平面，提供优化的蚀刻轮廓并防止边缘珠。此外，EMCORE E450平台设计为提供高精度运动控制的低压晶圆扫描，以精确的轮廓结构。E450平台提供各种高级过程控制和诊断功能。它还设计用于与广泛的附件设备接口，如质谱仪、压力控制器和温度控制器，允许通用操作。该系统可配置为与外部网络完全集成以进行数据遥测。VEECO/EMCORE E450平台旨在提高吞吐量和提高产量。该单元提供自动化的启动和关闭功能，允许用户实时监控蚀刻结果，并提供统计过程控制反馈。通用机器具有直观的图形用户界面，允许操作员监视和控制过程变量。此外,用户还可以存储数据以供以后查看和分析。总体而言,VEECO E450平台提供了广泛的高级功能和功能,使其成为精确蚀刻应用程序的理想工具。高精度机构、先进的等离子源设计、集成的过程控制和监控，使得该工具成为制造半导体器件、光电子、光学系统的理想工具。