二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DM #9400342 待售

ID: 9400342
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Vertical LPCVD furnace, 12" Process: Nitride Wafer transfer handling system (2) FOUPs 507 BW Mat scrubber EST300WN Pump 2005 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN-DM是一种主要用于半导体工业的扩散炉和附件装置。它结合了高真空炉和低真空炉,为氧化、沉积、氮化和吸附等制造过程提供单一的解决方桉。与其他扩散炉不同的是,这种模型是一种中型扩散炉,尺寸大约为600mm(w)x 600mm(d)x 600mm(h)。该炉利用石英晶体对特定工艺进行温度监测和控制。炉的内室由Q型石英制成,在过程中提供出色的导热性能和温度一致性。为提高效率和提高最高温度均匀性,采用吸收式镍材料衬里。该装置还具有多区温度控制,具有优异的氧化、沉积、氮化和吸附性能。这使得腔室的多个区域可以在不同的温度下加热,从而能够对整个腔室的温带进行统一的控制。HITACHI DJ-1206VN-DM还提供了一种使用氮气或氙气的大气控制设备。该系统有助于气体的均匀溷合和防止潜在的污染。该装置还包括压力和温度监测装置、紧急联锁和低压报警等多项安全功能。它还包括高温安全极限的自动重置、背压控制机、互锁无阀、应急排气工具和保温监测资产。KOKUSAI DJ-1206VN-DM扩散炉是为提高扩散过程的性能和精度而设计的。它是半导体行业可靠可靠的解决方桉。其坚固的结构,加上其全面的安全特性和多用途的大气控制,使其成为任何基于扩散的应用的绝佳选择。
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