二手 KLA / TENCOR EV300 #9019927 待售
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已售出
ID: 9019927
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KLA/TENCOR EV300是一种用于半导体工业的掩模和晶圆检测设备,专门用于高分辨率掩模和晶圆检测。该系统结合了KLA晶片检测技术和TENCOR掩模检测技术,为客户提供了全面、高性能的检测解决方桉。KLA EV 300是可用的最快、功能最强大的掩模和晶圆检测系统之一,因为它集成了硬件和软件。该装置的最大扫描速度为17.4 μ米/秒,可进行快速、高效的检查。它还配备了先进的光学成像机和激光照明检查头,使其能够以无与伦比的精度和灵敏度检测微观缺陷。此外,该工具还配备了获得专利的焦点控制资产,使其能够以前所未有的精确度扫描更广泛的材料。TENCOR EV-300模型具有人性化的界面,使用户能够快速、轻松地访问和控制各种检查功能,如选择要检查的图像缺陷、扫描布局、参数设置、校准模式等。此外,设备能够同时执行多个扫描,从而获得更快的结果。该系统具有直观的用户界面和扩展功能,可帮助半导体制造商节省时间和金钱,同时实现最高的准确性和性能。EV300还配备了功能强大的图像分析软件包,提供易于使用的缺陷识别和分类工具。软件还支持脚本编写,允许进行复杂的缺陷分析和自动分类。此外,该设备还具有内置校准功能,使其能够自动适应不断变化的环境或基板条件。KLA EV300机提供了速度、精度和灵敏度无与伦比的全面、高性能的掩模和晶圆检测解决方桉。其集成的软硬件、用户友好的界面、快速的扫描速度、先进的光学成像工具、激光照明检查头以及强大的图像分析软件包,使其成为任何半导体制造商的绝佳选择。
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