二手 AMAT / APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000 #293648481 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000是一种独特的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于集成电路（IC）制造。这种最先进的设备拥有多个站（最多两个站）的化学反应加热设备，可产生异常均匀的薄膜沉积，从而能够精确控制层厚并提高吞吐量。反应室设有静电耦合膜沉积速率高、方向均匀性较高的WxZ室。它还改善了整个腔室的热传导，消除了热点，并允许均匀的热梯度沉积。这种设备通过一个或两个传输机制提供令人印象深刻的基板装载能力。每个机构提供最多五个定制的加载位置，这些位置可以优化以达到最优的前体均匀性。静电耦合CVD进一步提高了载荷能力，实现了保形CVD、扩散控制和表面控制系统等多种薄膜生长技术。该系统还允许创建多个膜层。该P5000提供了一个高分辨率的视觉单元，在对准基板时提高准确性。双基板清洁臂提供了额外的清洁层，提高了生产过程中的可靠性和精度。一个内置的区域监测器分析沉积的组成和均匀性。控制器的直接数据采集功能可以方便地记录和跟踪数据。此外，P5000利用先进的温度控制机，提供无与伦比的热均匀性。该软件最多配备四个气流配置文件,可针对所需的应用程序进行定制。防漏室CVD的使用进一步提高了工艺可靠性。利用低压动态过程进一步消除了对真空泵的需求，从而节省了下游过程真空成本的时间和金钱。总体而言，AMAT WxZ Chamber CVD Centura for P5000为用户提供了一个通用可靠的IC制造设备。其最先进的设计、多基板清洗阶段和温度控制工具，结合其先进的软件，使该反应堆成为CVD技术的行业领导者。
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